英媒：中芯国际测试首款国产DUV光刻机　或突破美国出口限制

英媒报道，内地半导体龙头中芯国际正在测试由上海初创公司宇量升开发的深紫外线（DUV）光刻机，此举被视为内地推动半导体产业自主化的重要里程碑，若能成功量产，将帮助内地突破美国的出口管制。

上海宇量升科技股份有限公司为深圳半导体设备制造商新凯来的子公司，位于华为半导体生态系中，主要研发半导体设备制造，尤其主攻光刻机。

报道指，该款DUV光刻机采用与荷兰光刻机巨头艾司摩尔（ASML）系统类似的“浸没式”技术。消息人士透露，这款DUV光刻机的主要零组件已实现在地化生产，但仍有部分零件需依靠进口，目前该公司正致力于完全自主化生产。

报道提到，中芯国际的初期测试结果令人鼓舞，但新型DUV设备通常需要至少一年的持续调校，才能达到量产所需的稳定性和良率。这款28奈米（nm）DUV光刻机利用多重图案化技术，目标是生产7奈米等级的芯片，理论上也可制造5奈米芯片，但良率较低。