路透社12月17日引述消息人士报道，中国科研团队2025年初已在深圳制造出极紫外光（EUV）光刻机原型机，目前进入测试阶段，但尚未生产出可运作的芯片。该国产原型机主要用于生产人工智慧、智慧型手机及高端计算所需的尖端芯片，此被视为突破美国技术封锁、打破西方垄断的重要一步。

据报道，该原型机由前荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML，艾司摩尔）公司的工程师团队参与开发，在技术受限的情况下，团队采取“逆向工程”方式研制，同时透过二手市场取得旧款设备零件展开研究与改进，消息人士透露，目前这台原型机已能成功产生极紫外光，但尚未能生产出可运作的芯片。

报道指，迄今为止，惟有阿斯麦这一家公司掌握EUV技术。该公司生产的机器是英伟达（Nvidia，又译辉达）、英特尔（Intel）和三星（Samsung）等生产尖端芯片不可或缺的设备。美国自2018年起施压荷兰，要求其阻止阿斯麦向中国销售EUV系统。阿斯麦则向路透社指，从未向中国客户销售过任何EUV系统。