据美国科技媒体《The Information》7月27日报道，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机（DUV），预计今年内向中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等主要芯片制造商交付首批约5台设备，2027年产量计划提升至约20台。

主打28纳米芯片生产　可满足7nm芯片制造需求

路透社据美国科技媒体《The Information》报道，两名不具名知情人士称，一家总部位于上海的企业已启动浸没式DUV光刻机的小规模批量生产。

为加快研发进度，该公司整合了国内多家企业的浸没式DUV研发团队，其中包括政府支持的芯片设备初创企业上海宇量升科技。但报道未有披露这家获得国家支持的制造商具体名称。

据了解，浸没式DUV光刻机用于在矽晶圆上印制电路图形。在相关限制使中国芯片制造商无法获得更为复杂、适用于更先进制程的极紫外光刻机（EUV）后，浸没式DUV成为中国芯片制造商目前能够使用的最先进光刻设备。

另据中国科技自媒体《快科技》，这款国产光刻机主打28纳米成熟制程芯片生产，依托多重图形化曝光工艺，还可满足7纳米级别芯片的制造需求。

按照产能规划，该设备今年计划生产约5台，2027年产量提升至约20台。首批设备将交付给中芯国际、华虹半导体及长鑫存储。

中芯国际去年已对国产光刻机展开测试

《金融时报》去年9月曾报道，中芯国际测试的国产浸没式DUV光刻机来自上海企业宇量升。报道指出，宇量升与深圳国资控股的新凯来存在资本或项目联系，外界有时将其称为“新凯来系”光刻机。该设备当时仍处于测试、调校阶段，目标是在2027年前后具备商业量产条件。

在美国酝酿进一步收紧光刻设备对华出口及维修服务限制之际，这项突破标志着中国在推进半导体设备国产化、降低对海外光刻设备依赖方面迈出关键一步。

ASML股价应声急挫

据路透社，长期主导光刻机生产的荷兰ASML（艾司摩尔）对此未予置评，但其股价应声下跌。阿姆斯特丹市场星期一整个上午均处于上涨状态，但ASML的股价下滑8.3%，跌至6月初以来的最低水平。

在欧美的其他同行的股价也受上述消息的影响。荷兰ASM国际股价下跌7.3%，荷兰贝西半导体股价下挫9.9%，美国应用材料公司股价下滑6.7%，美国泛林集团股价则跌了7.9%。