自2007年首部 iPhone 诞生以来，如今距离 iPhone 20 周年（2027年）只余两年，外媒指Apple正筹备推出一款名为 “iPhone XX” 的纪念旗舰机，并将在设计与技术上再度突破，将于有屏下 Face ID。

无边萤幕

根据多位供应链分析师与业界消息，Apple的设计团队多年来一直以一块完整玻璃为终极目标，即打造一部没有开孔、没有边框的 iPhone。传闻指 iPhone XX 将采用四边微曲的全景屏幕，令画面视觉延伸至机身边缘，达到几乎零边框的效果。

这项设计挑战极高，尤其在耐用度与防护性上。为此，Apple预计将采用升级版 Ceramic Shield 2 保护玻璃，具更高抗刮及抗摔性能。外媒指出，若此设计最终落实，iPhone XX 将呈现出纯玻璃机身的观感，几乎看不到任何物理边界。

屏下Face ID与前镜头

为实现无开孔屏幕，Apple势必要解决 Face ID 与前置镜头的整合难题。Apple正研发屏下 Face ID 技术，让 TrueDepth 感应模组隐藏于 OLED 面板下方，藉精密的透光控制完成人脸辨识。

目前市场传闻不一。部分分析师认为，Apple已接近完成 Face ID 屏下技术的量产测试，可能在 iPhone XX 首度亮相；而前镜头则以极小打孔方式保留。这项技术若能落实，将使 Dynamic Island 正式退场，iPhone XX 成为首款真正实现一体化显示的 iPhone。

OLED显示技术升级　亮度更高、功耗更低

屏幕技术亦是 iPhone XX 的重点升级之一。Apple计划采用具 COE（Color Filter on Encapsulation） 技术的新一代 OLED 面板。此技术可移除传统偏光层，令颜色滤光层直接覆于封装层上，不但令整体面板更薄，亦可让光线穿透率提升约20%，进而提高亮度并减少能耗。

为改善去除偏光层后的反光问题，Apple将采用进阶防眩涂层，令屏幕在强光环境下仍清晰可见。同时，iPhone XX 会新增一种微凹形光扩散层，使曲面四角的亮度分布更平均，带来更真实、无边际的观感体验。

摄影系统全面革新

除了外观与显示技术，iPhone XX 的影像系统亦被视为另一大焦点。消息指Apple将采用全新自家研发的 HDR 感光元件，能在单张照片中捕捉高光与阴影细节，动态范围最高可达 20 段曝光层次，接近专业电影摄影机级别。

新感光元件将与“Fusion Camera”系统整合，透过人工智能自动辨识场景光源，动态调整光圈与快门速度。Apple亦考虑导入“可变光圈”镜头技术，配合进阶影像处理芯片，实现夜拍降噪、景深自然化与即时 HDR 视觉预览。

在录影方面，iPhone XX 将支援 8K 高帧率拍摄及改良版 ProRes 影像格式，针对专业创作者提供更高影像宽容度与色彩控制空间。

Apple自研数据芯片与2奈米A系列核心

另一项重大技术突破，来自Apple自家通讯芯片的全面导入。iPhone XX 将搭载 Apple 设计的 5G Modem，取代现有的 Qualcomm Apple。苹果计划透过深度整合 SoC 架构，使数据传输更节能、延迟更低，并配合 AI 网络优化演算法，提升讯号稳定性与自动切换效率。

同时，iPhone XX 将采用第二代 2奈米制程的 A21 芯片，由台积电独家代工。与现行 A19 Pro 相比，效能提升预计达 15%，而功耗则可进一步降低三成。这意味新机在执行 AI 运算、3D 绘图及相片后制时，能以更低温度与更长续航时间运行。

值得一提的是，Apple计划将 2 奈米制程推向全系列装置，包括 iPhone、MacBook 及 Vision Pro，形成统一架构的多装置运算平台。