国产浸没式DUV光刻机传量产！中芯密密测试 一零件仍受制日本？
国产自家芯片技术大跃进，浸没式DUV光刻机传量产！据外媒最新消息，内地上海一间国企背景公司已秘密启动国产浸没式深紫外线DUV光刻机量产，首批设备预计今年交到中芯国际（SMIC）等大厂手上。虽然技术上标榜可以透过多重曝光硬推至7nm，但现实是产能极低，而且核心零件依然握在日本供应商手中。
技术上透过多重曝光可硬推至7nm？（AI生成）
上海公司集结人马，中芯密密做测试
今次传出量产消息的是上海“宇量升科技”（Yuliangsheng Technology）。据外媒The Information报道，这间公司整合了内地多间半导体巨头的研发队伍。而中芯国际早在去年9月，就已经到手这部国产DUV浸没式机台进行验证。除了中芯国际，首批机台还会陆续交给华虹半导体同记忆体大厂长鑫存储（CXMT）。不过受制于本土供应链问题，预计今年全年交付量仅5部左右，要等到2027年才有机会拉升到年产20部。
中芯国际早在去年9月，就已经到手这部国产DUV浸没式机台进行验证。（AI生成）
核心零件仍受日本掣肘
虽然内地声称大部分零件已经实现国产化，但依然有瓶颈存在，这部光刻机几项极为关键的核心组件，目前依然严重依赖日本供应商。一旦外国供应链有任何风吹草动，这条量产线随时又会被拖慢进度。
多间半导体巨头合作研发并量产国产光刻机。（路透社）
原生只能做28nm，硬上7nm代价极大
至于规格方面，这部国产光刻机在单次曝光下，原生极限其实只是28nm。如果要挑战7nm芯片，就必须依靠多重曝光（Multipatterning）技术去硬堆。不过这种做法代价极高，除了套刻误差（Overlay Error）会大幅飙升，更会直接拖垮晶圆良率。良率低就等于生产成本狂飙，短期内难以做到真正的经济效益。
在产能上依然与大厂ASML有较大差距。（路透社）
国产DUV设备迈入量产阶段，是中国应对科技封锁的重要里程碑，但在稳定度、运作效率、机台工艺，以及最重要的供应链自主度上，距离国际龙头ASML依然有极大差距。