第二十六届中国国际工业博览会上，一台被视为高端光刻机“心脏”的极紫外（EUV）光源系统样机首次公开展出。这台由朗道燧岩（上海）科技有限公司（下称“朗道燧岩”）研发的样机，是目前公开可见进度最靠前的国产EUV光源系统。

极紫外（EUV）光源被誉为光刻机“心脏”

综合《观察者网》、《解放日报》在7nm及以下先进制程芯片制造中，EUV光源是不可或缺的三大核心零部件之一。目前，ASML是全球唯一能够制造并交付商用EUV光刻机的厂商。

而光刻机的“心脏”——EUV光源，其垄断壁垒同样坚不可摧。EUV光源的技术主流为 LPP（激光照射滴锡等离子体，Laser-Produced Plasma）。ASML于2013年收购了全球最顶尖的光源巨头Cymer，完成了对高功率EUV光源技术链条的彻底锁死。

值得注意的是，现场工作人员透露，朗道燧岩的（EUV）光源系统国产化率已达90%，绝大多数核心零部件均为自主研发，技术路线与国际龙头厂商保持一致，目前可用于芯片曝光测试。

样机亮相并不等于短期内能够实现大批量生产

不过现场工作人员亦坦言，该光源系统距离真正的商业量产仍需3至5年时间。当前面临的主要挑战在于输出功率的进一步提升以及长期运行的稳定性。

商用EUV光刻系统通常要求光源功率达到数百瓦级别，并需在长时间高强度运转中保持极高可靠性。目前的样机主要完成了“从0到1”的工程验证，距离工业级应用仍有明显差距，后续仍需依靠产业链协同攻坚。

值得注意的是，朗道燧岩官方资料显示，公司旗下产品已取得阶段性突破。其中FlintNano LPP-OXXO（低功率EUV光源系统）目前已处于产品化阶段。

其驱动雷射功率为1000W，雷射频率1至20kHz，转换效率大于2%，EUV能量大于15W，等离子体尺寸为60微米，持续工作时间更超过100小时。而FlintMicro-LPP 系列（高功率EUV光源系统）已顺利完成原理论证。

公开资料显示，朗道燧岩成立于2024年，创始人王豪博士团队以北京清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV曝光光源技术。

公司成立以来备受资本青睐，于2025年10月获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资2026年1月完成天使+轮融资，并于2026年7月顺利完成A轮融资，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等，目前已入驻上海集成电路设计产业园。